無機分析

提供サービス

ウェハ面内汚染分析

ウェーハ表面の金属汚染量測定

親水面ウェーハにも対応可能になりました。
最新のICP-MS/MSを活用して、ウェーハ面内の任意の箇所の高感度金属濃度測定が可能です。
工程管理や不良解析の手段としてご活用ください。

分析使用一覧

  • **
    自動回収対応サイズ:4~12インチとなります。その他のサイズや、表面状態によってはマニュアル回収となりますので別途ご相談ください。
  • **
    指定薬液での表面回収を希望の際は別途ご相談ください。
  • *1
    疎水面素材の場合はエッジカット幅を0mm~指定可能です。
  • *2
    親水面素材の場合はエッジカット幅を3mm~指定可能です。

ウェーハ分析(VPD-ICP-MS法)の流れ

定量下限値の一例(12インチウェーハ)
項目 単位 定量下限値 分析方法
Na Atomos/cm2 1.E+08 VPD-ICP-MS
Al Atomos/cm2 1.E+08
Cr Atomos/cm2 1.E+07
Fe Atomos/cm2 1.E+08
Ni Atomos/cm2 1.E+07
Cu Atomos/cm2 1.E+07
K Atomos/cm2 1.E+08
Ca Atomos/cm2 1.E+08
Mg Atomos/cm2 1.E+07
Mn Atomos/cm2 1.E+07
Zn Atomos/cm2 1.E+08
In Atomos/cm2 1.E+07
Mo Atomos/cm2 1.E+07
Pt Atomos/cm2 1.E+07
Au Atomos/cm2 1.E+07
Co Atomos/cm2 1.E+08
Ti Atomos/cm2 1.E+08
W Atomos/cm2 1.E+08
Ce Atomos/cm2 1.E+08
有機物定性(エイコサン換算) pg/cm2 0.1 TDS-GC-MS
  • *
    サンプルの状態により変動することがあります。

定性分析 対象元素一覧(シリコンウェーハ表面分析)

ウェーハ分析事例

ICP-MS/MSによる高感度分析

最新のICP-MS/MSを用いて、純水・薬液・ウェーハ表面等の超高感度分析を実施致します。長年半導体工場で培った超微量分析技術により、皆様の問題解決を支援致します。

特徴

  • 定量下限としてppq~pptの測定が可能
  • P、S、Si等軽元素の測定が可能
  • ナノ粒子の測定が可能
  • 高マトリックスサンプルもマスシフトによる高感度分析が可能

測定例

  • 半導体製造プロセスで用いられる純水や試薬の測定
  • 硬度な電子部品やバッテリ部分の高純度の希土類元素の測定
  • 硫黄、リンなどのヘテロ元素の測定による未知のタンパク質の定量
  • 食品サンプルに低濃度で含まれるヒ素やセレンの測定
  • 環境、食品、および生物系に存在するナノ粒子(NP)の測定
検出下限
元素 検出下限(ppt)
現状(ICP-MS) 新装置(ICP-MS/MS)
Li,Cd,Mn等 0.2 0.02
Na,K,Ca等 2 0.1
P,S,Si 5000 50
  • H2O2中の元素を想定(アジレントのアプリケーションデータより)

装置

Agilent8900トリプル四重極ICP-MS/MS

JIS K 0557-1998用水・排水の試験に用いる水の分析事例

分析・研究に用いる水、A1~A4の水質測定を承ります。

定量下限値の一例
項目 単位 種別及び質 定量下限値(例)
A1 A2 A3 A4
電気伝導度 mS/m 0.5以下 0.1以下 0.1以下 0.1以下 -
有機体炭素(TOC) mgC/L 1以下 0.5以下 0.2以下 0.05以下 0.005
亜鉛 µgZn/L 0.5以下 0.5以下 0.1以下 0.1以下 0.01
シリカ µgSiO2/L - 50以下 5.0以下 2.5以下 1
塩化物イオン µgCl-/L 10以下 2以下 1以下 1以下 0.1
硫酸イオン µgSO42-/L 10以下 2以下 1以下 1以下 0.1

より高感度な定量下限値のご相談など、お問合せを承ります。

各種溶出試験

SEMI F57規格による溶出試験

SEMI F57規格は前回版(SEMI F57-0120)で、アンモニウムイオン、ヒ素、アンチモン、カドミウム、チタン、すず、バナジウムの分析項目追加と、従来分析項目の基準値の強化が行われました。今回の最新版(SEMI F57-0622)では分析項目や基準値の変更はなく、ペレットの表面積値の取扱い注意点などが追加されました。
最新版対応による試験のご相談、お見積依頼をお待ちしております。

SEMI F57-0622に準拠したイオン汚染、金属汚染、TOC汚染の溶出試験(超純水による85±5℃、7日間溶出)を実施します。

試験結果の一例

分析結果一覧表 試料:サンプル(PFAパーツ)
分析項目 基準 結果(単位:µg/m2)
アンモニウム NH4+ ≦100 <10
臭素 Br- ≦100 <10
塩素 Cl- ≦100 25
フッ素 F- ≦20000 1100
硝酸 NO3- ≦100 <10
亜硝酸 NO2- ≦100 <10
リン酸 PO43- ≦100 <10
硫酸 SO42- ≦100 <10
アルミニウム Al ≦5 <0.1
ヒ素 As ≦2 <0.1
アンチモン Sb ≦2 <0.1
バリウム Ba ≦15 <0.1
ホウ素 B ≦30 0.5
カドミウム Cd ≦2 <0.1
カルシウム Ca ≦10 0.5
クロム Cr ≦1 <0.1
Cu ≦10 <0.1
Fe ≦5 0.9
Pb ≦1 <0.1
リチウム Li ≦2 <0.1
マグネシウム Mg ≦2 <0.1
マンガン Mn ≦5 <0.1
ニッケル Ni ≦1 <0.1
カリウム K ≦10 <0.1
ナトリウム Na ≦10 <0.1
ストロンチウム Sr ≦0.5 <0.05
チタン Ti ≦2 <0.1
Sn ≦2 <0.1
バナジウム V ≦2 <0.1
亜鉛 Zn ≦5 <0.1
全有機炭素 TOC ≦40000 <300
溶出液量 10.0mL
接液部表面積 0.010m2

その他の溶出試験

半導体製造に使用される各種薬液(硫酸、塩酸、フッ化水素酸、硝酸、アンモニア、過酸化水素水など)による溶出試験やSEMI C90(液体化学分配システムで使用されるパーフルオロアルコキシ(PFA)材料のテスト仕様)による試験など、お客様ごとにカスタマイズした試験も承ります。

イオンクロマトグラフによる超微量分析

イオンクロマトグラフィーとは、液体クロマトグラフィーの一種で、イオン種成分を測定する方法です。
環境水や排水分析だけでなく、食品中や半導体の品管理等にも広く適用されています。
無機アニオン・カチオン、有機酸アニオン、アミン類カチオンが測定可能です。
また、大容量濃縮装置を使用することで、これまで検出できなかった超微量成分の定量も可能です。

装置全景

アニオン・カチオン何れのイオン成分の分析が可能です。
機種:Integlion(サーモフィッシャー・サイエンティフィック)

オートサンプラー

オートサンプラーはケミカルクリーンブース内に設置し、周辺環境からのコンタミネーションを最小限にしております。

測定事例

大容量濃縮装置
大容量濃縮装置を用いた超純水中のアニオン成分微量分析
成分 濃縮なし 大容量濃縮
F- <0.5ppb 0.1ppb
Cl- <1ppb <0.005ppb
Br- <1ppb <0.005ppb
SO42- <5ppb <0.01ppb

濃縮液量:50mL

大容量濃縮装置を使用することで、超微量のFイオンを検出。

各種含有試験

酸分解による含有量分析

サンプル中に含有する元素の精密分析の前処理方法として酸分解法があります。
酸分解法には、密閉式/解放式の2つの方法があります。

マイクロウェーブ試料分解による試料前処理

密閉式酸分解法
サンプル分取→MW分解→定容/希釈→測定
マイクロウェーブ試料分解装置

ヒーター加熱による試料前処理

解放式酸分解法
サンプル分取→ヒーター加熱分解→定容/希釈→測定
デジプレップ試料分解装置
ビーカーによる試料前処理

クリーンルーム内クリーンドラフトで作業しますので作業環境中からの
コンタミネーションを最小限にでき、微量成分の定量も可能です。

各種測定方法

原子吸光光度法
アジレント・テクノロジー社製
Agilent 240Z AA ゼーマン原子吸光分光光度計
ICP-MSによる分析
アジレント・テクノロジー社製
Agilent 7900 ICP-MS
アジレント・テクノロジー社製
Agilent 8900 トリプル四重極 ICP-MS